Schutzrechte

Das Gebrauchsmuster

Das Gebrauchsmuster ist wie das Patent ein technisches Schutzrecht. Es wird auch als "kleines Patent" oder "Minipatent" bezeichnet und ist im Gebrauchsmustergesetz (GebrMG) geregelt.
Die Notwendigkeit zur Errichtung des Gebrauchsmusters ergab sich durch das praktische Bedürfnis, ein gewerbliches Schutzrecht für kleinere Erfindungen zu schaffen, die den (hohen) Ansprüchen des Patents nicht genügen. Hierbei darf jedoch nicht der Schluss gezogen werden, dass das Gebrauchsmuster im Vergleich zum Patent – dem großen Schutzrecht – etwas Minderwertiges ist. Vielmehr handelt es sich bei beiden um wirksame, den Bedürfnissen der Praxis angepasste Schutzrechte. Auch der Rechtsinhaber eines Gebrauchsmusters kann jedem Dritten verbieten, ein Erzeugnis, dass durch das Gebrauchsmuster geschützt ist, herzustellen, anzubieten, in Verkehr zu bringen oder zu den genannten Zwecken einzuführen oder zu besitzen. Zudem kann der Rechtsinhaber auf Abwehrrechte wie beim Patent zurückgreifen.
Das Gebrauchsmuster ist vor allem für Einzelerfinder, kleine und mittlere Unternehmen (KMU) interessant, da es für den Anmelder mitunter in der Kosten-Nutzen-Kalkulation günstiger abschneidet. Dies ist darauf zurückzuführen, da das Gebrauchsmuster einfacher und schneller als das Patent zu erlangen ist. Geeignet ist das Gebrauchsmuster damit auch besonders für kurzlebige Alltagserfindungen, für Neuentwicklungen, die nur einen kleineren technischen Fortschritt bringen und nur eine kürzere Schutzdauer im Vergleich zum Patent benötigen.
Durch gesetzliche Vorgabe im Gebrauchsmustergesetz (Paragraf 1 II Nr. 3 GebrMG) sind Computerprogramme, Programme für DV-Anlagen dem Gebrauchsmusterschutz nicht zugänglich.

Voraussetzungen

Gegenstand des Gebrauchsmusters ist wie beim Patent eine technische Erfindung, die neu und gewerblich anwendbar sein muss (Definitionen auf der Seite Patente). Im Gegensatz zum Patent braucht diese Erfindung aber nur auf einem erfinderischen Schritt beruhen. Die Erfindungshöhe des erfinderischen Schrittes beim Gebrauchsmuster ist nicht so hoch wie die Erfindungshöhe der erfinderischen Tätigkeit beim Patent. Damit unterscheiden sich Patent und Gebrauchsmuster in der Erfindungshöhe.
Zu beachten ist, dass beim Gebrauchsmuster im Vergleich zum Patent nur eine Prüfung erfolgt, die sich auf das Vorliegen der formellen Voraussetzungen beschränkt, nicht jedoch eine Sachprüfung in Bezug auf die oben genannten Merkmale "Neuheit", "gewerbliche Anwendbarkeit" und "erfinderischer Schritt". Eine solche Überprüfung wird nur im Rahmen eines möglichen Verletzungsprozesses oder dem Löschungsverfahren durchgeführt. Dies bedeutet für den Anmelder, dass häufig nicht sicher ist, ob sein angemeldetes Gebrauchsmuster auch gültig ist. Ist dies nicht der Fall, kann es im Falle eines Verletzungsprozesses zu unerwarteten Kosten kommen. Daher sollte auch bei der Gebrauchsmusteranmeldung unbedingt fachkundige Hilfe hinzugezogen werden.

Schutzdauer

Der Schutz aus dem Gebrauchsmuster ist auf insgesamt 10 Jahre befristet.

Anmeldung

Die Anträge auf Erteilung eines Gebrauchsmusters werden vom DPMA (Deutsches Patent- und Markenamt) in München bearbeitet. Die Anmeldung hierzu kann entweder direkt beim DPMA erfolgen oder aber bei der Dienststelle in Jena oder beim technischen Informationszentrum Berlin (TIZ). Darüber hinaus werden Gebrauchsmusteranmeldungen auch von bestimmten Patentinformationszentren (Patent- und Markenzentrum Rhein-Main in Darmstadt) entgegengenommen, die die Anmeldung ohne weitere Prüfung an das DPMA weiterleiten. In der Regel erfolgt die Erteilung des Gebrauchsmusters innerhalb weniger Monate.

Kosten

Bitte beachten Sie, dass sich Gebühren – oft schnell - verändern können. Die aktuellen Gebühren finden Sie immer online beim DPMA.

Kostenhilfe

Sofern der Anmelder bestimmte soziale Voraussetzungen erfüllt, kann er die angebotene Verfahrenskostenhilfe in Anspruch nehmen. Hierzu hält das DPMA online ein Merkblatt zur Verfügung.

Merkblatt

Ein umfangreiches Merkblatt zur Gebrauchsmusteranmeldung ist online beim DPMA erhältlich.